01ASML 的套刻 / 电子束板凳是 434 条在职，其中 351 条在荷兰
截至 2026 年 8 月 26 日洛杉矶时间凌晨 6:44，ASML 映射套刻/量测/光刻制程控制席位在职 434，对照 KLA 42，同座在招 16。
ASML 映射套刻/量测/光刻制程控制在职 434。这页先读两家光刻 / 量测名上的功能席位，不先读公司范围总人数。
ASML 映射在职 434 条中有 351 条在荷兰。美国只有 42 条。点名国家 351 + 42 = 393，不是 434 的全覆盖。
KLA 映射在职 42。两家相加 434 + 42 = 476。
埃因霍温 191、费尔德霍芬 21、以及 KLA 占 16 条在招中的 13 条，放在后两节。首屏只引用 434 对照 42。
02埃因霍温映射 191 条 ASML 席位，总部城市费尔德霍芬映射 21 条
ASML 映射在职点名城市是埃因霍温 191、费尔德霍芬 21。总部城市不是最厚的一层。
03KLA 的 42 条是套刻量测 / 电子束席位，16 条在招里有 13 条在这家
KLA 映射套刻/量测/光刻制程控制在职 42、在招 13。头条在招 16 条里有 13 条在 KLA。
04476 / 16 是光刻制程控制，不是晶圆厂小时工，也不是海外芯片 58
头条合计只加 ASML 与 KLA：映射在职 434 + 42 = 476，映射在招 3 + 13 = 16。
| 公司 | 映射在职 | 映射在招 | 读法 |
|---|---|---|---|
| ASML | 434 | 3 | 头条 · 更厚板凳 |
| KLA | 42 | 13 | 头条 · 更厚岗位簿 |
| 头条合计 | 476 | 16 | 只加这两个光刻量测名 |
05这把刀是套刻 / 量测制程控制，不是刻蚀/薄膜，也不是仿真 HAV
功能切片
标题/职能词：overlay，或 metrology，或 eBeam / e-beam，或 process control，或 litho process-control。席位样本（不公布人名）：ASML 在职 EBeam Metrology Product Architect / Application Engineer, E-beam Metrology Inspection / E-Beam Applications Design Engineer, Metrology RDA；在招 FLS Production Engineer - Optical Alignment & Metrology Competency / CS - EUV Technical Support Engineer (Metrology and ILP competency)。KLA 在职 Technical Support Engineer EBeam Metrology / Associate Test Engineer III Ebeam Metrology / Process Control Solutions；在招 Overlay Metrology Specialist – eBeam / Applications Engineer- Overlay Metrology (eBeam)。没有把刻蚀、薄膜、硬件辅助验证或公司范围半导体写进切片，也没有把 YieldStar 当主检索代币。
在职与在招
数字是 Metix 映射为当前任职于该公司名的档案，以及映射到该公司名的可见在招岗位，不是官方编制。
名称
ASML 取 asml.com、费尔德霍芬这一条公司记录，只按公司记录读取，不加上市名单计数。光秃的上市名单 ASML 不是本页。KLA 取 kla.com、米尔皮塔斯，只按公司记录读取。光秃的上市名单 KLA 不是本页。
时点与来源
截至 2026 年 8 月 26 日洛杉矶时间凌晨 6:44。来源 Metix AI。本页不发明公司范围半导体总人数。本页属于 系列报告。相关的 仿真 / HAV 系列 是 EDA 切片，不是本页的套刻 / 量测制程控制切片。
本报告回答的问题
- ASML 434 对 KLA 42 的套刻/量测/光刻制程控制席位是什么？
- 截至 2026 年 8 月 26 日洛杉矶时间凌晨 6:44，ASML 映射套刻/量测/光刻制程控制席位在职 434，对照 KLA 42，同座在招 16。这些是 Metix 功能切片映射计数，不是官方编制。来源 Metix AI。
- 476 条在职 / 16 条在招加的是什么？
- 476 条在职 / 16 条在招只加 ASML 的 434 / 3 与 KLA 的 42 / 13。切片是套刻 / 量测 / 电子束 / 光刻制程控制标题。晶圆厂小时工、刻蚀、薄膜、硬件辅助验证与公司范围半导体总人数不在本页。这不是海外芯片地图或 Cadence / Synopsys 仿真 HAV 系列的翻版；那些页是不同切片。
- 为什么埃因霍温 191，而不是费尔德霍芬 21，是 ASML 最厚的点名城市？
- ASML 映射在职：荷兰 434 条中有 351 条，美国 434 条中有 42 条。点名城市：埃因霍温 191、费尔德霍芬 21。点名国家 351 + 42 = 393，不是在职 434 的全覆盖。在招 3 条：美国 2、台湾 1。KLA 在职 42 条中有 14 条在美国、德国 7、台湾 4；在招 13 条拆成美国 11、台湾 2。官方招聘页：ASML https://www.asml.com/en/careers/find-your-job ，KLA https://kla.wd1.myworkdayjobs.com/en-US/Search。
- ASML 434 条套刻 / 量测地图应该怎么引用？
- Metix AI Talent Intelligence，2026-08-26。套刻 / 光刻制程控制人才地图 2026 | Metix AI。https://metix.ai/reports/zh/series/asml-kla-overlay-litho-process-control-2026
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